曾有科學家研究過密度對對光學鏡面加工質量的影響，初步研究結果所示，在相同加工工藝條件下，碳化硅陶瓷密度對光學鏡面加工質量確實有一定影響。當采用一定粒度的金剛石拋光液對碳化硅陶瓷試樣進行光學鏡面加工時，低密度的碳化硅陶瓷光學鏡面加工后表面粗糙度較高，高密度的碳化硅陶瓷光學鏡面加工后表面粗糙度較低。

通過光學顯微鏡觀察，碳化硅陶瓷光學鏡面加工后表面缺陷主要表現(xiàn)為氣孔或缺陷，密度較高的碳化硅陶瓷試樣光學鏡面加工后，表面氣孔或缺陷更少，表面質量更好。另外，降低磨粒尺寸有利于表面質量的提高。

如上所述，碳化硅陶瓷密度對光學鏡面加工質量有一定影響，在一定密度范圍內(3.09～3.13g·cm³)，光學鏡面加工質量差別不大，若進一步改善加工工藝，采用粒度更小的拋光液對碳化硅陶瓷試樣進行光學鏡面加工后，均可得到較好的表面質量。這說明，當碳化硅陶瓷密度達到一定高度時，密度對光學鏡面加工質量的影響可通過光學鏡面加工工藝的優(yōu)化而減小或消除，即影響碳化硅陶瓷光學鏡面加工質量的主要因素表現(xiàn)為加工工藝參數(shù)，而密度對光學鏡面加工質量的影響則可以忽略。

因此綜合來看，為使SiC材料具有超光滑表面以滿足光學應用要求，目前常用的解決辦法主要是：對SiC材料進行表面改性，其方式為在SiC鏡體光學表面鍍致密化涂層，然后對涂層進行拋光。